Chương I – Tổng quan

1.1.Màng mỏng ZnO trên đế Si có lớp Ti đệm

1.1.1.Giới thiệu

1.1.2.Tác dụng đệm của Ti lên màng ZnO trên Si

1.1.3.Ứng dụng

1.1.4.Ưu điểm của ZnO

1.2.Tạo màng bằng phương pháp phún xạ MAGNETRON DC

1.2.1.Cơ chế vật lí của phún xạ

1.2.2.Hiệu suất phún xạ

1.2.3.Cấu tạo hệ phún xạ

1.2.4.Kĩ thuật phún xạ

1.2.5.Đặt trưng của phún xạ

1.3.Quá trình tạo bia gốm ZnO

1.4.Phép đo hall xác định đặt tính điện

1.5.Phương pháp bốn đấu dò xác định đặt tính điện

1.6.Tính chất điện

1.7.Đặt tính quang

1.8. Cấu trúc ZnO

Chương II – Thực nghiệm và kết quả bàn luận

2.1.Chế tạo bia gốm ZnO

2.1.1.Chuẩn bị vật liệu bột Oxit

2.1.2.Nghiền trộn bột Oxit

2.1.3.Định hình bia ZnO

2.1.4.Nung bia ZnO

2.2.Bia kim loại Ti

2.3.Làm sạch lam thủy tinh và Silic

2.4.Các bước trong quá trình phún xạ

2.5.Môi trường chế tạo màng mỏng ZnO/Si và ZnO/Ti/Si

2.6.Kết quả và thảo luận

2.6.1.Chế tạo màng ZnO trên đế thủy tinh

2.6.2.Chế tạo màng ZnO trên đế Si (111) và (100)

2.6.3.Chế tạo màng ZnO trên đế silic có lớp đệm Ti

Chương III – Kết luận – hướng phát triển

Tài liệu tham khảo

Phụ lụ